Electron Beam Lithography System

세계최초 후방산란전자의 영향, 근접효과의 영향이 극히 적은 초고가속전압 125kV 전자선 노광장치

 

가속전압 100kV,  High Performance 전자선 노광장치

 

Stitching Accuracy 향상, 성능개선, 편리한 User Interface, 조작성 향상, 컴팩트한 디자인의 50kV 전자선 노광장치

고속노광에 특화된 생산성 높은 Nano Lithography Direct Writing System