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ELS-S50 High Precision Electron Beam Lithography System
반도체 장치
측정,분석장치
특장점
・Electrostatic Beam Deflector의 개선으로 1mm 전면에서 균일한 노광 결과 획득
・최소선폭 10nm
・SEM조작, CAD 조작을 한대의 PC로 일체화한 간편한 User Interface
・컴팩트한 설계, 경제적인 가격
실험실 설비/재료
SEM User Interface
CAD User Interface
주요사양
Application gallery
 피라미드 패턴 (Halftone 노광) |  Half Pitch 100nmL&S |
|---|---|
 Brazed Circle pattern (Halftone 노광) |
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