ELS-S50
전자선노광장
ELS-S50 High Precision Electron Beam Lithography System

반도체 장치

​측정,분석장치

특장점

・Electrostatic Beam Deflector의 개선으로 1mm 전면에서 균일한 노광 결과 획득

・최소선폭 10nm

・SEM조작, CAD 조작을 한대의 PC로 일체화한 간편한 User Interface
・컴팩트한 설계, 경제적인 가격

실험실 설비/재료 

SEM User Interface
CAD User Interface

주요사양

Application gallery
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피라미드 패턴 (Halftone 노광)

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Half Pitch 100nmL&S

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Brazed Circle pattern (Halftone 노광)