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● Tungsten 같은 입경 1nm 이하의 초미립자도 손쉽게 코팅 가능 .( Ar Ion beam sputter 법으로 Deposition 된 텅스텐 막의 입자크기는 0.2~0.5nm ） 70 만배의 SEM 으로 관찰해도 입자형태가 보이지 않으므로 고배율 관찰에 적합한 Coating 장치 입니다 . 

● 단시간 코팅이 가능합니다 . ( 진공도 1Pa 도달시간 3~5 분 )

● 시료표면온도가 50 ℃이하이기 때문에 열손상이 적은 Coating 이 가능합니다 .

● 극미세공간도 Coating 점착력이 우수합니다 .

● Target 은 표준 Tungsten 이며 고객요청에 따라 각종 Target 으로 변경 가능합니다 .

※옵션으로 Etching 도 가능 .