・기존의 이빔 장치의 100배의  Throuhgput 실현

・최소선폭 20nm

・최대 전류 1μA에서 시간당 6inch wafer x 2 의 High Throughput

・SEM조작, CAD 조작을 한대의 PC로 일체화한 간편한 User Interface