ELS-HS50
Electron Beam Lithography
ELS-HS50 High Throughput Electron Beam Lithography System

반도체 장치

​측정,분석장치

특장점

・기존의 이빔 장치의 100배의  Throuhgput 실현

・최소선폭 20nm

・최대 전류 1μA에서 시간당 6inch wafer x 2 의 High Throughput

・SEM조작, CAD 조작을 한대의 PC로 일체화한 간편한 User Interface

실험실 설비/재료 

SEM User Interface
CAD User Interface

주요사양