ELS-HS50


ELS-HS50 High Throughput Electron Beam Lithography System
반도체 장치
측정,분석장치
특장점
・기존의 이빔 장치의 100배의 Throuhgput 실현
・최소선폭 20nm
・최대 전류 1μA에서 시간당 6inch wafer x 2 의 High Throughput
・SEM조작, CAD 조작을 한대의 PC로 일체화한 간편한 User Interface
실험실 설비/재료


SEM User Interface
CAD User Interface
주요사양
