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BODEN Electron Beam Lithography System

특장점
・조각시편~최대 12인치 대응
・자동 웨이퍼 전송 시스템
・가속전압 50,100,125, 150keV 대응
・SEM조작, CAD 조작을 한대의 PC로 일체화한 간편한 User Interface
・최대 400nA 고전류
・Shot pitch : 0.2nm
・Scan clock: 100Mhz
측정,분석장치
반도체 장치
실험실 설비/재료
BODEN Electron Beam Lithography System

・조각시편~최대 12인치 대응
・자동 웨이퍼 전송 시스템
・가속전압 50,100,125, 150keV 대응
・SEM조작, CAD 조작을 한대의 PC로 일체화한 간편한 User Interface
・최대 400nA 고전류
・Shot pitch : 0.2nm
・Scan clock: 400Mhz
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